点击 Image processing — Segmentation — Advanced — Watershed。
Input mask:选择应用分水岭算法的掩膜,点击 Dataset browser 中的掩膜将其切换为 Active mask。
Elevation function:对象边界根据需要高程函数作为输入的分水岭算法计算。有三个高程函数的可选项,合适的高程函数应具有远离边界的局部低像素值、边界附近和边界上的高像素值。
Result:选择分水岭算法的输出
Multiple masks, minimum number of masksB:具有最少独立掩膜数量的多个掩膜,每个颗粒不会与同一掩膜中别的颗粒接触。
Multi-label mask, one label per region:一个多标签掩膜,每个颗粒都有一个单独的标签。
Single mask, with interfacial separator mask:一个颗粒掩膜和一个界面分离掩模。
Discard particles that touch boundaries:勾选此选项可排除接触图像边界的颗粒。对于查看颗粒的统计数据可能会很有用,因为它只包含完整的颗粒。
图:(左)原始图像(中)基于 OTSU 方法获得的分割图像(右)分水岭算法创建的分割